DOWESTON™은 여러 산업 용어에 대한 정의를 편집하고 작성했습니다. 이 목록은 i의 요소를 더 잘 이해하는 데 도움이 되는 용어집입니다.

DOWESTON은 여러 산업 용어에 대한 정의를 편집하고 작성했습니다. 이 목록은 업계 요소를 더 잘 이해하는 데 도움이 되는 용어집입니다. 공정 계기는 용기나 탱크에 저장되거나 흐르는 매체에 대해 측정이 필요한 모든 곳에서 매우 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 이러한 용어의 대부분은 이러한 측정에 사용되는 기술을 이해하는 데 도움이 됩니다.

정확도 삽입 미터 열 질량 유량계
배압 K-계수 열 질량 흐름 스위치
열량 측정 유량계 층류 난류
열 흐름 스위치 레벨 스위치 터빈 유량계
캐비테이션 레벨 트랜스미터 초음파 유량계
밀도 질량 유량계 범용 프로세스 디스플레이
EMI/RFI 효과 개방형 채널 유량계 가변 면적 유량계
유량계 포지티브 변위 유량계 속도 유량계
흐름 스위치 프로세스 디스플레이 체적 유량계
유체 퍼지 유량계 무선 모니터링
풀 보어 미터 레이놀즈 넘버 무선 모니터링 시스템
헤드 타미 / 로토미터

정확성
유량계의 정확도는 유량계의 표시된 값과 유량의 실제 값 또는 유량의 총 값 사이의 최대 양수 및 음수 편차입니다. 측정된 수량의 실제 값과 명시된 확률 사이의 간격입니다. 정확도는 불확실성이라고도 합니다. 정확도에는 선형성, 히스테리 및 반복성으로 인한 결합된 오류가 포함됩니다. 정확도는 스팬 또는 풀 스케일의 백분율, 비율의 백분율 또는 한도 또는 한도의 백분율로 표현할 수 있습니다. 명시된 값의 차이를 이해하는 것이 중요합니다.

배압
배압 - 주어진 파이프 직경에서 원하는 가스 흐름이 아니라 압력을 나타냅니다. 시스템의 압력이 공급 압력보다 큰 모든 조건. 배압은 파이프의 막힘, 파이프 방향 또는 방향, 파이프 표면 및 파이프 유형, 팽팽한 굽힘으로 인해 발생합니다. 배압이라는 용어는 압력이 유지되고 공기 저항, 분자 간의 마찰로 인해 같은 방향으로 흐름을 일으키지만 저항으로 인해 흐름이 감소할 때 오해의 소지가 있습니다. 배압은 종종 압력 강하와 혼동됩니다. 배압은 액체의 증기 방출을 돕고 액체 배관 시스템 헤드의 기능입니다. 이 상태를 종종 기병이라고 합니다.

유량계

유량계는 매체가 센서를 통과할 때 매체의 열 변화를 감지하여 연속 유량을 측정합니다. 참고로 열 유량계는 공조, 집진, 에너지 절약 시스템, 음용수/비음용수, 황산 및 환기 모니터링에 일반적으로 사용됩니다.


흐름 스위치
매체가 센서를 통해 흐를 때 매체의 열 변화를 감지하여 유량을 측정하는 흐름 스위치입니다. 열 흐름 스위치는 펌프 보호 및 환기를 위해 화학 공급 시스템, 냉수 공급, 연소 냉각 시스템, 댐핑 조절기에 사용됩니다.


캐비테이션
액체가 증기압에 가까운 압력으로 유량계에 들어가면 유량계의 압력 강하로 인해 액체가 기체로 변합니다. 압력이 회복되면서 가스 압력이 다시 증기압 이상으로 상승하면 기포가 터져 캐비테이션이 발생할 수 있습니다. 도금 및 백신 접종은 많은 배관 시스템과 많은 유형의 유량계를 손상시킬 수 있습니다.


경비
액체의 성질은 단위 부피당 무게 또는 질량으로 표현됩니다. 액체 밀도는 일반적으로 온도의 함수입니다. 가스 및 증기 밀도는 온도와 압력에 따라 다릅니다. 예를 들어, 물의 밀도는 60oF에서 입방피트당 62.34파운드입니다. 밀도는 200o에서 입방피트당 60.13파운드입니다.

F. [상위]

EMI/RFI 효과
EMI/RFI 영향 - 무선 주파수 간섭(RFI)이라고도 하는 전자기 간섭(EMI)은 무선 주파수 스펙트럼의 무선이 정전기 결합 또는 전도를 통해 회로에 영향을 미치는 외부 간섭에 의해 방해를 받을 때 발생합니다. 전자파 방출은 전기 장비의 성능 저하 또는 부작용을 일으킬 수 있습니다. 일반적으로 용접기, 모터 스타터, VF 드라이브, 라디오에서 생성되어 아날로그 계기 신호 서지를 유발합니다. 차폐 및 라인 필터는 이러한 영향을 줄일 수 있습니다.


미터
파이프 또는 기타 용기를 통한 매체의 연속 흐름을 측정하는 공정 장비. 측정할 매체는 일반적으로 기체, 액체 또는 진흙입니다. 유량 측정에 사용할 수 있는 많은 기술이 있으며 그 중 일부에는 열, 질량, 정변위, 터빈, 초음파 및 가변 면적/체적 측정이 포함됩니다. 매질, 극고온, 고압 또는 저유량 응용 분야에 미립자가 있는 경우 응용 분야에 대한 유량계를 선택할 때 특정 요소를 고려해야 합니다.


수량 스위치
매체가 파이프나 다른 용기를 통과할 때 설정점에서 매체의 흐름을 측정하는 프로세스 도구입니다. 측정할 매체는 일반적으로 기체, 액체 또는 진흙입니다. 흐름 스위치에 사용되는 많은 기술이 있으며 그 중 일부에는 열, 초음파 및 가변 면적//체적이 포함됩니다. 매체에 미립자 물질, 극도의 고온, 고압이 있거나 저유량 응용 분야인 경우 응용 분야에 적합한 흐름 스위치를 선택할 때 특정 요소를 고려해야 합니다.


중간
액체는 일반적으로 액체, 기체 또는 증기로 분류됩니다. 액체는 실질적으로 비압축성이며 특정 부피를 차지합니다. 가스와 증기는 압축 가능하여 알려지거나 주어진 압력에서 모든 부피를 채웁니다.


구멍 측정기
일반적으로 유량 측정을 위해 전체 유량 팀을 사용하는 모든 유량계. 풀 보어 게이지는 나사산 또는 플랜지형 프로세스 연결부를 포함할 수 있으며 일반적으로 지정된 파이프 크기와 동일한 프로세스 연결부 크기를 가집니다.


각 유량계는 압력 또는 수두 형태로 시스템에 에너지를 사용합니다. 미터 외에도 모든 피팅, 밸브 및 직관도 헤드에 어느 정도 영향을 미칩니다. 유량계는 가능한 적은 수의 헤드로 시스템을 도입합니다. 마찰을 통해 손실된 에너지는 수두로 알려진 흐름에 대한 저항을 유발합니다.


유입량계
일반적으로 파이프 삽입 포트 또는 공정 배관 시스템으로 제작된 격리 밸브를 통해 배관 시스템에 삽입되는 모든 유량계. 삽입 유량계는 일반적으로 파이프 내의 전략적 위치에서 유체 속도의 단일 측정을 기반으로 전체 유량을 추론하는 모든 장치로 분류됩니다. 일반적인 삽입 게이지는 감지 요소, 지지 구조 부착 마운트 및 압력 밀봉으로 구성됩니다. 측정에만 사용되는 미터의 정확도는 측정된 속도와 평균 유체 또는 가스 속도 사이에 알려진 관계가 있다는 가정을 기반으로 합니다.


요인
K 계수 - 유량계의 K 계수는 측정 기간 동안 유량계를 통과하는 유체의 해당 총량에 대한 펄스의 유량계 출력 비율입니다. K 계수의 변화는 레이놀즈 수 또는 유량의 함수로 나타낼 수 있습니다. 유량계 제조업체는 유량계가 편리한 유체(일반적으로 물 또는 공기)에서 교정될 때 K 계수 대 레이놀즈 수 곡선을 생성할 수 있습니다. K 계수는 기기 본체의 열 효과 또는 배관 일정에 따라 달라질 수 있습니다.

흐름
La Minar Flow - 유체가 층 사이에 끊김 없이 평행한 층으로 흐르는 유동 조건. 층류는 모든 공기 분자가 파이프를 따라 함께 앞으로 이동할 때 가스 흐름에 이상적인 흐름 조건입니다. 효율적인 공기 흐름 시스템은 레이놀즈 수가 2300 미만이어야 합니다.


전환하지 마십시오
배럴, 용기, 굴뚝, 탱크, 우물 또는 기타 용기에 있는 매체의 포인트 레벨을 측정하는 공정 장비입니다. 측정할 매체는 일반적으로 액체, 슬러리 또는 고체입니다. 레벨 스위칭을 위한 세 가지 일반적인 기술에는 유도파 레이더, 비접촉 초음파 및 진동이 포함됩니다. 매체가 유전 상수가 낮거나 매우 뜨겁거나 거품 또는 증기 영역에 있는 경우 정확한 측정 및 내구성을 위해 적절한 레벨 전환 기술을 선택해야 합니다.


실행하지 마십시오
배럴, 용기, 굴뚝, 탱크, 우물 또는 기타 용기에서 연속체의 레벨을 측정하기 위한 프로세스 장비입니다. 측정할 매체는 일반적으로 액체, 슬러리 또는 고체입니다. 수평 송신기에 대한 두 가지 일반적인 기술에는 비접촉 초음파 및 유도파 레이더가 포함됩니다. 매체가 유전 상수가 낮거나 열이 매우 높거나 거품 또는 증기 영역에 있는 경우 정확한 측정 및 내구성을 위해 적절한 수평 트랜스미터 기술을 선택하는 것이 필수적입니다.


유량계
코리올리 원리를 사용하여 측정하는 유량계, 즉 한 단위 시간에 유량계를 통과하는 매체의 질량. 질량 유량계는 일반적으로 다른 계량기 기술에 비해 비용이 더 많이 들고 매우 정확합니다. 질량 유량계의 일반적인 응용 분야에는 가스, 산업용 코팅, 메탄올/촉매 스트림 및 오일이 포함됩니다.


오픈 채널 유량계
알려진 치수의 채널을 통과하는 유량 수준을 측정하는 유량계. 굴뚝 또는 굴뚝을 사용하여 유량 수준을 수학 공식에 연결하여 유량을 결정할 수 있습니다. 개방형 채널 유량계가 유량을 측정하는 방식 때문에 유량계 자체는 관련된 다른 요인에 따라 레벨에서 유량으로 변환할 수 있는 프로세스 모니터와 함께 레벨 트랜스미터로 구성됩니다. 개방형 채널 유량계의 일반적인 응용 분야에는 하수 흐름, 중력식 하수관, 빗물 모니터링 및 정화기 흐름이 포함됩니다. 폐기물 및 폐수는 이러한 유형의 유량계의 주요 산업입니다.


변위 유량계
매체가 미터를 통과할 때 기어 또는 스퍼의 변위를 측정하는 유량계. 이러한 유형의 측정은 알려진 양의 매체를 움직일 때 기어 또는 박차를 세는 체적 측정 원리를 사용합니다. 이 게이지는 점도 조건 변화에도 불구하고 일관된 정확도를 유지하며 브레이크액, 연료, 접착제, 그리스, 오일, 폴리머 및 Skydrol 응용 분야에 자주 설치됩니다.


공정 표시
프로세스 조건을 모니터링하고 표시하는 프로세스 도구. 프로세스 디스플레이는 디지털 판독값, 스케일 또는 기타 수단으로 측정값을 표시할 수 있습니다. 데이터 입력이 있는 프로세스 디스플레이에는 일반적으로 아날로그 루프 출력과 같은 데이터 출력 수단이 포함됩니다. 프로세스 디스플레이는 다양한 구성으로 제공되며 애플리케이션에 필요한 모든 기능을 갖춘 디스플레이를 선택하는 것이 중요합니다.
[

화학 유량계
유속을 결정하기 위해 유량을 측정하는 유량계. 체적 유량계는 일반적으로 가변 면적 유량계, 순환계 및 회전계라고도 합니다. 퍼지 유량계는 저유량용으로 설계된 로터리 미터의 고전적인 정의를 충족하는 유량계입니다. 흐름은 게이지 내부의 눈금에서 직접 읽을 수 있는 게이지 리프트 볼 또는 기타 표시기를 통해 이루어집니다. 매체에 입자상 물질이 포함되어 있으면 여과해야 합니다. 일반적인 퍼지 유량계 응용 분야에는 산소, 질소, 공기, 헬륨, 물 및 탈이온수를 포함한 저유량 액체 및 가스 측정이 포함됩니다.


노드 번호
액체 및 가스 흐름 시스템의 흐름 패턴을 예측하기 위한 무차원 수량입니다. 레이놀즈 수는 층류에서 난류 상태로의 전환을 예측하는 데 사용됩니다.
난류 및 층류도 계산할 수 있습니다. 다음 공식을 사용하여 무엇이 호출되는지 결정합니다.
레이놀즈 수: re = vd/μ
어디:

그리고 레이놀즈 수가 있습니다.
는 공기 밀도입니다.
v는 평균 속도입니다.
d는 파이프의 직경입니다.
μ는 동적 점도입니다.


타미 / 로토미터
체적 유량계를 참조하십시오.


질량 유량계
유량계는 매체가 센서를 통과할 때 매체의 열 변화를 감지하여 연속 유량을 측정합니다. 참고로 열식 질량 유량계는 일반적으로 공조, 집진, 에너지 절약 시스템, 음용수/비음용수, 황산 및 환기 모니터링에 사용됩니다.


질량 흐름 스위치
매체가 센서를 통해 흐를 때 매체의 열 변화를 감지하여 유량을 측정하는 흐름 스위치입니다. 열 질량 흐름 스위치는 펌프 보호 및 환기를 위해 화학 물질 공급 시스템, 냉각기 공급수, 연소 냉각 시스템, 댐핑 조절기에 사용됩니다.


흐름
유체 흐름이 채널이나 층에서 불규칙한 요동을 겪는 상태입니다. 불규칙한 크기와 방향으로 움직이는 흐름의 속도. 난류는 공기 분자가 파이프 벽에서 앞뒤로 앞뒤로 튀는 데 너무 많은 에너지를 소비하고 파이프에서 멀리 이동하는 데 너무 많은 에너지를 소비하기 때문에 가장 효율적인 유동 조건입니다.


회전식 유량계
매체가 미터를 통과할 때 베인 변위를 측정하는 유량계. 이러한 유형의 측정은 속도를 기반으로 합니다. 포지티브 변위 미터(미디어가 움직이는 양을 결정하기 위해 기어 또는 스퍼를 계산함)와 달리 터빈 미터는 미터를 통과하는 미디어의 속도를 기준으로 유량을 측정합니다. 터빈 게이지는 정확성과 기계적 무결성 때문에 마모성 및 부식성 액체에 일반적으로 사용됩니다. 일반적인 응용 분야에는 화학 처리, 석탄층 메탄 응용, 유압 응용, 살충제 제조, 토지 개간 및 2차 오일 회수가 포함됩니다.


소닉 유량계
유량계는 초음파를 통해 미터 센서 사이로 전송되는 매체의 유량을 계산합니다. 초음파 유량계는 빔의 통과 시간을 평균화하거나 도플러 효과를 사용하여 주파수 변화를 측정하여 유속을 결정합니다. 초음파 유량계는 비침습적이므로 파이프 외부에 설치됩니다. 항목이 필요하지 않기 때문에 미터를 설치하면 프로세스를 중단할 필요가 없습니다. 일반적인 초음파 유량계 응용 분야는 폭기 액체, 준설, 플라스틱, 펄프, 슬러지, 슬러리 및 하수입니다.


프로세스와 함께 표시
다양한 모니터링 프로세스 애플리케이션을 위한 프로세스 디스플레이는 표준 공장 구성으로 제공됩니다. 일반적인 프로세스 디스플레이에는 일반적으로 RS-485 및/또는 이더넷과 같은 통신 인터페이스와 릴레이 제어를 위한 출력이 포함됩니다. "범용"은 장치에 표준 프로세스 모니터보다 더 많은 기능이 내장되어 있음을 의미합니다.


가변 면적 유량계
체적 유량계를 참조하십시오.


학위 유량계
주어진 유체 또는 질량의 속도 또는 속도를 측정하는 유량계, 일반적으로 유체가 통과하는 유체 중단 체적 유량의 관점에서.


포지티브 유량계
유속을 결정하기 위해 유량을 측정하는 유량계. 체적 유량계는 일반적으로 가변 면적 유량계, 순환계 및 회전계라고도 합니다. FLO-CORP 라인에서는 MEMFlo™ 유량계 라인을 볼륨 라인이라고 합니다. MEMFlo 유량계는 체적 측정 원리를 사용하여 유량을 결정하고 기존의 체적/가변 면적 유량계보다 더 뛰어난 기능을 제공합니다.
당사의 MEMFlo™ 플룸 게이지 라인은 매우 견고하고 고온 및 고압용 모든 금속에서 사용할 수 있으며 매질의 부유물을 처리할 수 있습니다.
단단한. 기존의 체적/가변 면적 유량계는 미립자 물질을 처리할 수 없으며 유량계에 들어가기 전에 매체를 여과해야 합니다. 또한 양변위 유량계 및 게이지를 포함하여 다른 유량계는 체적 측정 원리를 사용합니다. 포지티브 변위 미터는 기어 또는 스퍼를 카운트하여 미터를 통과하는 매체의 알려진 체적을 결정합니다. 이 미터는 설계 체적 측정을 사용하지만 이름은 매체가 유속을 결정하기 위해 기어 또는 스퍼를 변위시키는 방식을 나타냅니다. 유량계는 일반적으로 정변위(부피) 또는 터빈(속도) 측정에 의존합니다.


라인 모니터링
장치에서 데이터를 보고할 때와 인터페이스에서 데이터를 받을 때 사이에 와이어를 사용하지 않고 모니터링이 수행됩니다. 예를 들어 셀룰러 무선 장치는 셀 타워에 데이터를 무선으로 보고합니다. 그런 다음 웹 인터페이스를 통해 보고된 프로세스 데이터를 봅니다. 이 예에서 전선은 공정 측정 장치를 현장의 셀룰러 송신기에 연결하는 데 사용될 수 있으며 전선은 데이터가 기지국에 도달하면 데이터를 이동하는 데 사용됩니다. 그럼에도 불구하고 필드 장치는 유선 연결을 사용하지 않고 프로세스의 일부 단계에서 데이터를 보고할 수 있으므로 프로세스에는 무선 모니터링이 포함됩니다.
무선 모니터링은 블루투스, 와이파이, 셀룰러, 위성을 포함한 다양한 전송 방법을 사용할 수 있습니다.
기다리다. 또 다른 예로 탱크 트럭에 장착된 레벨 런처를 생각해 보십시오. 픽업 및/또는 배송이 이루어지면 레벨 트랜스미터가 주기적으로 탱커의 레벨을 측정합니다. 설정된 간격 및/또는 트리거 지점에서 무선 모니터링 장치는 셀룰러 또는 위성 데이터를 통해 보고합니다. 이러한 데이터는 웹 인터페이스를 통해 사용할 수 있습니다. 데이터는 탱크가 배터리 커버리지 영역에 있거나 위성과의 통신이 방해받지 않는 한 무선 모니터링을 통해 보고됩니다. 데이터가 보고되면 웹 인터페이스 또는 소프트웨어 인터페이스에 로그인하여 볼 ​​수 있습니다. 장치의 무선 구성 보고, 이메일/문자 알림 설정, GPS 위치(장치가 GPS를 지원하는 경우) 및 기타 정보를 포함하여 인터페이스를 통해 추가 기능도 사용할 수 있습니다.


라인 모니터링 시스템
무선 통신을 사용하여 프로세스 기기(유량계, 레벨 트랜스미터 등)에서 측정한 프로세스 데이터를 보고하는 장치입니다. 소프트웨어 또는 웹 인터페이스를 통해 처리 데이터, 구성 기능 및 기타 기능을 제공하는 시스템의 일부 역할을 합니다. 무선 감시 시스템은 일종의 M2M(Machine-to-Machine) 기능입니다. 무선 모니터링을 참조하십시오.